Система электронно-лучевого испарения с двумя камерами EBE-200Dual

EBE-200Dual — двухкамерная система для электронно-лучевого осаждения материалов на пластины диаметром до 200 мм. Применение в таких областях, как: полупроводники, оптические покрытия, фильтры и т. д. Использование двух камер подразумевает расположение испарителя и подложек на держателе в раздельных вакуумных камерах. Это решение позволяет держать испаритель под постоянным вакуумом даже во время процесса загрузки-выгрузки подложек, благодаря чему достигается высокая стабильность работы испарителя и исключается негативное воздействие атмосферы на материалы напыления. Конфигурация системы обеспечивает легкий доступ к испарителю, удобное обслуживание двух модулей и даёт возможность использовать широкий функционал для осаждения слоев за счет использования различных подложкодержателей с системой наклона и вращения, системы контроля за процессом и удобного программного обеспечения.

Особенности

• Отдельные вакуумные камеры для источника и для образца
• Поддержка работы с пластинами до Ø200 мм
• Наклоняемый и вращающийся подложкодержатель для одной пластины Ø200 мм. Возможность размещения нескольких пластин меньшего диаметра (например, 3 × 76 мм)
• Неоднородность толщин плёнок:
• по пластине (WiW): ≤±3 %
• от пластины к пластине (WtW): ≤±3 %
• Функция предварительной плазменной очистки поверхности пластины (сеточный ионный источник)

Данные по процессам