UL-BMS — однокамерная система для осаждения тонких плёнок материалов методом магнетронного распыления мишени. Позволяет наносить плёнки металлов и диэлектрических слоёв. Возможно применение установки для формирования проводящих и изоляционных слоёв, напыления отражающих и антибликовых оптических покрытий и др. Работает с групповой загрузкой пластин.
Материалы осаждения: Ti, Ni, Au, Ag, Al, Cu, оксиды металлов, нитриды металлов и т. д.
Продувка и вентиляция камеры
Автоматическое открытие крышки камеры для загрузки подложек
Ручная загрузка/выгрузка подложек
Размеры подложек и производительность:
пластины Ø 100 мм: макс. 12 пластин / цикл
подложки размером 60 × 48 мм, макс. 40 подложек/цикл
работа с фрагментами пластин
Неравномерность осаждения плёнок: ≤ ± 5 %
Подложкодержатель с вращением и нагревом. Максимальная температура нагрева подложек: 500 ℃
Источник постоянного тока для осаждения мощностью до 3 кВт. Возможность установки источника с импульсной подачей или ВЧ-источника
Количество магнетронов: до 4 шт. диаметром 150 мм
Возможность установки источника для предварительной плазменной очистки пластин: 13,56 МГц, мощностью 600 Вт с устройством автоматического согласования
Рабочие газы: Ar, O2, N2
Вакуумная система рабочего модуля — турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы. Опционально возможна установка криогенного насоса
Предельный вакуум: 5,0×10-7 Торр
Система автоматического контроля давления (APC)
Полностью автоматический процесс напыления с контролем параметров при помощи компьютера