Автоматическая установка плазменной очистки

Автоматическая установка вакуумной плазменной очистки – это система плазменной очистки низкого давления, использующая плазму, образующуюся за счёт ионизации газа посредством создания микроволнового разряда в рабочей зоне, вследствие чего в камере образуются активные частицы: ионы, радикалы, УФ-излучение, электроны. Образованная плазма бомбардирует поверхность изделия, удаляя загрязнения, активируя поверхность, улучшая смачиваемость и адгезию для последующих процессов.

• Удаляет фтористые соединения, окислы и органические загрязнения
• Усиливает адгезию и смачиваемость поверхностей
• Уменьшается расслаиваемость
• Очищаются контактные площадки
• Улучшается текучесть и равномерность при заполнении пресс-формы (для заливки в пластик)
• Увеличивает скорость капиллярного затекания
• Значительно снижается количество пустот
• Интуитивно понятное ПО
• Возможность установки различных генераторов плазмы от НЧ до СВЧ
• Возможность увеличения количества газовых линий до 4
• Конструкция с 8 треками для параллельной работы механизмов подачи образцов и их плазменной обработки
• Гибкая конструкция подачи образца позволяет быстро перенастраивать установку под выводные рамки различных габаритных размеров (по ширине)
• Встроенная система контроля объёма подачи газов в рабочую зону