Установка для плазменной очистки поверхности при производстве широкой номенклатуры микросхем, электронных компонентов и различных изделий при сохранении высокого качества техпроцесса и простоты эксплуатации.
Сниженная температура процесса очистки, защищающая поверхности материалов от тепловых повреждений
Гибкая архитектура электродов и полок-держателей
ВЧ-генератор с рабочей частотой 13,56 МГц и переменной мощностью от 0 до 600 Вт
Интегрированное программное обеспечение, осуществляющее управление процессом и плазмой в реальном времени, запись процесса обработки, в том числе при удаленном доступе
Размеры камеры (Ш х Г х В)
375 х 430 х 375 мм
Конфигурация электродов
Положительные и отрицательные полюса можно менять местами
Количество полок под электроды
6
ВЧ-генератор
13,56 МГц, 0-600 Вт
40 кГц, 0-1000 Вт
Количество регуляторов газа
До 4
Удаленный контроль
Управление процессом; управление плазмой
Насосы
Сухой
Габаритные размеры (Ш х Г х В)
900 х 900 х 1600 мм
Масса
500 кг
Запросить в один клик
Заказать звонок
Запрос оборудования на тестирование
?>
Сайт использует файлы cookie, обрабатываемые вашим браузером. Подробнее об этом вы можете узнать в Политике cookie.