Система ионной имплантации на средних токах Exceed 2300AH

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643

Система ионной имплантации на средних токах Exceed 2300AH

Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок

Печать/PDF

Описание
Технические характеристики

ISM-2300 — ионный имплантер для обработки 300 мм кремниевых пластин, используемый в производстве полупроводников. Предназначен для внедрения легирующих примесей (бор, фосфор, мышьяк и др.) в кремний с высокой точностью по дозе, энергии и углу. Ключевая характеристикой — высокая производительность, диапазоны доз и энергий, стабильность, чистота процесса и надежность, что является критически важным для современных техпроцессов.

Особенности

Энергия ионов до 250 кэВ
Ток до 2500 мкА
Улучшенная система фокусировки ионного луча
Высокая параллельность пучка ионов
Высокая воспроизводимость процесса
Возможность имплантации ионов с двойным зарядом (до 500 кэВ)
Угол имплантации: 0-60°

Диаметр обрабатываемых пластин	300 мм
Диапазон энергий	2 — 500 кэВ
Диапазон доз	1E11 — 9,99E16 атомов/см²
Точность энергии	В диапазоне 2 — 100 КэВ: <1 % n В диапазоне >100 КэВ: <1 кэВ
Точность дозы	<0,5 %
Равномерность дозы	<0,5% (для энергий ≥5 КэВ) <1 % (для энергий <5 КэВ)
Температуры пластины	<60°C при мощности пучка 600 Вт
Угловая точность при имплантации (тест по V-кривой)	X-TILT: ±0,5° TWIST (поворот): ±1,0°
Вакуумная система	Время откачки до базового давления <5E-7 Торр за ≤300 мин

Система ионной имплантации на средних токах Exceed 2300AH

Особенности

Запросить в один клик

Заполните форму

Запрос оборудования на тестирование