UL-MultiMS — однокамерная система для осаждения тонких плёнок различных материалов методом магнетронного распыления мишеней. Позволяет наносить плёнки металлов и диэлектрических слоёв. Конфигурация системы предполагает одиночную загрузку пластин в рабочую камеру и позволяет проводить гибкую настройку технологических процессов за счет применения трёх настраиваемых магнетронов в одной камере.
Результаты технологических процессов. Осаждение Cr
Производительность: одна пластина за цикл, возможность обработки фрагментов пластин
Диаметр обрабатываемых пластин до 150 мм
Неравномерность осаждения плёнок: ≤ ± 5 %
Возможность установки вакуумного шлюза для загрузки пластин
Установка различных типов магнетронов: ВЧ, постоянного тока и импульсного режима
Количество магнетронов до 3 шт.
Настраиваемое положение магнетронов
Возможность совместной работы нескольких источников (co-sputtering)
Заслонки для закрытия мишеней
Затвор над держателем подложек
Система вращения подложкодержателя и возможность изменения положения держателя по вертикальной оси
Нагреваемый подложкодержатель: до 600 °С
Возможность установки источника для предварительной плазменной очистки
Рабочие газы: Ar, O2, N2
Продувка и вентиляция камеры
Вакуумная система рабочего модуля — турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы. Возможна опциональная установка криогенного насоса
Предельный вакуум: 5,0×10-7 Торр
Система автоматического контроля давления (APC)
Полностью автоматический процесс напыления с контролем параметров при помощи компьютера