Система плазмохимического осаждения из газовой фазы (PECVD) для пластин диаметром 300 мм PSC-300

PSC-300 — высокопроизводительная система кластерного типа для плазмохимического осаждения диэлектрических плёнок (SiO₂, SiNₓ и SiON). Конфигурация рабочего модуля предполагает сдвоенною камеру (архитектура Twin-Chamber), а транспортный модуль системы позволяет подключать до четырех процессных модулей PECVD/SACVD, что обеспечивает высокую пропускную способность за счет параллельной обработки до восьми пластин.

Особенности

• Для серийного производства на пластинах диаметром 300 мм. Обработка пластин Ø 150÷200 мм может быть реализована при помощи сменных комплектов оснастки рабочих модулей или использования специальных держателей
• Процессы осаждения слоев на базе SiH₄ или TEOS
• Архитектура Twin-Chamber для одновременной обработки двух пластин
• Использование системы генераторов с разной частотой (ВЧ и НЧ) для контроля напряженности слоев
• Регулируемое расстояние между электродами для точного контроля однородности осаждения
• Использование удалённого источника плазмы (RPS) для эффективной очистки камеры после осаждения
• Пятигранная платформа транспортного модуля
• Программное обеспечение собственной разработки