Система проекционной литографии Nikon NSR-SF155

Nikon NSR-SF155 — степпер для фотолитографии, использующий i-line излучение с длиной волны 365 нанометров для формирования схем на полупроводниковых пластинах. Предназначен для работы с некритичными слоями (например, слоями металлизации, изоляции) в массовом производстве современных запоминающих устройств и микропроцессоров. Принцип работы заключается в пошаговом (step-and-repeat) точном проекционном копировании изображения с фотошаблона на кремниевую пластину с коэффициентом x4. Обеспечивает высокую пропускную способность и точность наложения слоев, что делает степпер ключевым инструментом для экономически эффективного производства.

Особенности

• Источник излучения: i-line (365 нм)
• Разрешение нового степпера: 280 нм
• Разрешение восстановленного степпера: 400 нм
• Точность совмещения 25 нм
• Производительность: >200 пластин/час (300 мм пластина, 76 кадров на пластине)
• Размер кадра экспонирования: 25×33 мм