Установка отмывки оснастки CCF

CCF — установка для высокоэффективного удаления микрочастиц, органических и ионных загрязнений с поверхностей технологической оснастки. Процесс включает в себя несколько последовательных этапов: первичная смывка, основной этап очистки с использованием химических растворов или деионизованной воды (DIW) в сочетании с мегазвуковой или струйной обработкой, финишная фаза ополаскивания и заключительная фаза высокотемпературной сушки горячим азотом или в условиях пониженного давления. Это обеспечивает подготовку носителей для использования в чистых без риска перекрестного загрязнения обрабатываемых пластин.

Особенности

• Использование горячей деионизированной воды, также возможно добавление чистящего средства
• Процесс одновременной полной сушки
• Использование потока горячего воздуха (фильтруется через фильтр НЕРА)
• Специальные очищающие сопла
• Возможность как полуавтоматического, так и полностью автоматического управления
• Управление с помощью сенсорного экрана
• Защита паролем уровней управления и сброса рецептов
• Система интерфейса SECS / GEM