Система проекционной литографии Canon FPA-5510iX

Canon FPA-5510iX — передовая оптическая установка i-line степпера для фотолитографии, предназначенная для высокоточного нанесения рисунка на большие пластины в производстве полупроводниковых структур. Позволяет осуществлять экспонирование на областях, превышающих стандартные размеры чипов, что идеально подходит для изготовления крупных микросхем, устройств MEMS и сенсоров. Основные параметры включают разрешение до 0,5 мкм (500 нм), площадь экспонирования 52 × 56 мм и точность совмещения ≤50 нм.

Установка FPA-5510iX воплощает в себе передовые технологии для максимальной производительности в современной микроэлектронике. Благодаря высокой точности позиционирования и большой рабочей области этот степпер идеально подходит для массового изготовления интегральных схем, датчиков изображения и многоуровневых MEMS-устройств. Интеллектуальные опции, такие как WB-OAS (широкополосное совмещение) и LOX (режим пониженного содержания кислорода), оптимизируют процессы совмещения, повышая точность и производительность даже на сложных структурах.

Комплексная поддержка пластин диаметром 200 и 300 мм наряду с возможностью обработки тонких подложек и технологических стеков делают FPA-5510iX универсальным решением как для фронт-энд, так и бэк-энд процессов в полупроводниковой индустрии. Установка идеально подходит для предприятий, стремящихся к выпуску продукции с высокой степенью интеграции, минимальными потерями и стабильным качеством.

Особенности

• Система контроля концентрации кислорода
• Разрешение нового степпера: 0,5 мкм
• Разрешение восстановленного степпера: 0,6 мкм
• Источник излучения: i-line 365 нм
• Точность наложения слоев: ≤ 50 нм
• Размер фотошаблона: 6″
• Уменьшение размера с фотошаблона: 2:1
• Возможность работать с пластинами 8″ и 12″
• Размер кадра экспонирования: 52×56 мм
• Система активной компенсации клина
• Высокая производительность
• Производительность: ≥ 150 пл./час (12″)
• Габаритные размеры (Ш х Д х В): 2300×3340×2700 мм