Система реактивного ионно-лучевого травления (RIBE) для пластин диаметром 200 мм BRIon-E8

BRIon-E8 — система реактивного ионно-лучевого травления для формирования решеток и наклонных профилей (grating) в структурах, для травления магнитных материалов (ячейки MRAM), а также для обработки нелетучих материалов и соединений (Pt, Au, Ir, NiFe, CoFe и др.). Система реактивного ионно-лучевого травления (RIBE) добавляет химические реакции в стандартный IBE-процесс, позволяя достигать более высоких скоростей травления и большей селективности к маске. Держатель пластин может быть наклонён для изменения направления воздействия и достижения заданного угла наклона стенок травления. Поскольку энергия луча и поток ионов могут быть независимо настроены, BRIon-E8 достигает лучшего контроля при формировании рисунка. Система может быть применена для травления нестандартных профилей и трудных в обработке материалов.

Особенности

• Разработана для серийного производства и ОКР
• Ионный источник стандартного диаметра обеспечивает высокую однородность процесса травления (менее 3 % в пределах 1σ). Опционально доступен ионный источник большого диаметра, снижающий неоднородность процесса травления до менее, чем 1,5 %
• Энергия и поток ионного луча могут настраиваться независимо
• Быстрая скорость травления и высокая селективность благодаря реактивным рабочим газам
• Осевое вращение столика улучшает симметричность процесса
• Система реактивного ионно-лучевого травления доступна в кластерном или однокамерном исполнениях