SPV-100MWR-H — работающая в СВЧ-диапазоне вакуумная система плазменной обработки для предварительной обработки поверхностей перед операциями монтажа и разварки кристаллов.
Свободно движущиеся электроны формируют устойчивую плазму, которая подаётся в рабочую камеру, где происходит очистка образцов, размещённых в кассете (магазине).
Микроволны с частотой 2,45 ГГц вводятся через диэлектрическое окно в стенке вакуумной камеры, обеспечивая стабильное и однородное облако плазмы.
Особенности
Наличие разных держателей и фикстур для изделий нестандартной формы
Безэлектродная конструкция — подходит для обработки тонких и гибких изделий
Низкотемпературная плазма, не вызывающая термические повреждения изделий
Исключение электростатических повреждений благодаря электрически нейтральной плазме
Магнитожидкостный вращающийся механизм, обеспечивающий равномерность обработки
Высокоэффективное и равномерное травление
Поверхность рабочей камеры, покрытая изолирующим керамическим слоем, что улучшает эффективность очистки, равномерность и срок службы оборудования
Общая информация
Габариты (Ш ×В ×Г)
1230 × 1800 × 1100 мм
Вес
800 кг
Электропитание
AC 380 В, 50/60 Гц, 5-контактный разъем, 40 A
Генератор плазмы
Источник СВЧ-излучения
Мощность
0 — 1250 Вт
Частота
2,45 ГГц
Рабочие газы
Контроль потока
0 — 300 стандартных куб. см / мин
Количество газовых линий
Две (для подачи кислорода, аргона или других газов)
Система управления
Управление
Промышленный компьютер
Интерфейс
Сенсорный экран
Вакуумная система
Вакуумный насос
Сухой вакуумный насос
Вакуумная система
Высокопрочные вакуумные сильфоны
Материал камеры
Алюминиевый сплав
Толщина стенок камеры
25 мм
Внутренние размеры камеры (Ш × В × Г)
480 × 470 × 500 мм
Рабочий объем
Размещение до шести магазинов (размер магазина Д х Ш х В: 260 × 95 × 190 мм)
Или до четырех магазинов (размер магазина Д х Ш х В: 300 × 138 × 190 мм)
ECR
Для подложек, размещенных в магазинах с перфорацией (с щелевыми прорезями в боковых стенках), возможна усиленная обработка плазмой, генерированной методом электронного циклотронного резонанса (ECR)
Вращение
Равномерное вращение рабочего стола камеры обеспечивается магнитожидкостным вращающим механизмом