ПОИСК ПО САЙТУ

Плазменная обработка

Фильтр

Показать по:12 24 48 96

Список Таблица

Система обработки микроволновой плазмой SPV-100MWR-H

SPV-100MWR-H — работающая в СВЧ-диапазоне вакуумная система плазменной обработки для предварительной обработки поверхностей перед операциями монтажа и разварки кристаллов.

Характеристики

Установка плазменной очистки SPV150 (150 литров)

Полноразмерная версия установок плазменной очистки микросхем, электронных компонентов и различных изделий для среднесерийных и крупносерийных производств.

Характеристики

Установка плазменной очистки SPV60 (60 литров)

Установка для плазменной очистки поверхности при производстве широкой номенклатуры микросхем, электронных компонентов и различных изделий при сохранении высокого качества техпроцесса и простоты эксплуатации.

Характеристики

Установка плазменной очистки SPV10 (10 литров)

Установка для плазменной очистки поверхности при мелкосерийном, R&D-производстве, лабораторных исследованиях широкой номенклатуры микросхем, электронных компонентов и различных изделий.

Характеристики