Фильтр
MLB 150 GEN II — система безмасковой литографии базового уровня для производства фотошаблонов, интегральных схем, МЭМС, микрооптики, различных сенсоров и прочих устройств с прецизионной структурой.
Идеально подходит для НИОКР, а также для мелкосерийного производства, позволяя достичь высокого разрешения экспонирования и одновременно максимальной гибкости благодаря работе без фотошаблонов.
MSN 200 GEN II — система безмасковой литографии с расширенными возможностями для производства фотошаблонов, интегральных схем, МЭМС, микрооптики, различных сенсоров и прочих устройств с прецизионной структурой. Работает с подложками размером до 230×230 мм. Обладает высокой точностью и производительностью.
Применяется для задач, имеющих повышенные требования к точности совмещения слоев топологии, подходит как для НИОКР, так и для серийного производства.
Может комплектоваться лазерным интерферометром, обеспечивающим максимальную точность позиционирования рисунка, для создания комплекта фотошаблонов.
ML-M-U — система безмасковой литографии с расширенными возможностями для производства фотошаблонов, интегральных схем, МЭМС, микрооптики, различных сенсоров и прочих устройств с прецизионной структурой. Позволяет экспонировать топологии высокого разрешения на подложках размером до 300×300 мм.
Подходит как для НИОКР, так и для мелкосерийного производства.
iGrapher – система безмасковой литографии с расширенными возможностями для производства фотошаблонов, интегральных схем, МЭМС, микрооптики, различных сенсоров и прочих устройств с прецизионной структурой. Обладает высокой точностью и производительностью.
ML-M-S — система безмасковой литографии базового уровня для производства фотошаблонов, интегральных схем, МЭМС, микрооптики, различных сенсоров и прочих устройств с прецизионной структурой.
Хорошо подходит для задач НИОКР благодаря гибкой системе программирования технологического процесса.
Система безмаскового экспонирования EVG LITHOSCALE®, предназначена для проведения литографического процесса с высокой скоростью и разрешением без использования фотошаблонов.
Установка серии MicroLab представляет собой систему для формирования УФ-лучей для прямого экспонирования совместно с технологией пространственно-световой модуляции и перемещением по четырем осям. Система MicroLab предназначена для формирования точных микроструктур, а также экспонирования в градациях серого на плоских или криволинейных поверхностях с прямоугольными или полярными координатами. Также могут быть получены бинарные структуры наноразмеров.
Установка серии MiScan представляет собой систему для формирования УФ-лучей для прямого экспонирования или микро-нанолитографии. В системе MiScan установлены различные функциональные оптические системы, которые применяются совместно с технологией пространственно-световой модуляции, поддерживающей формирование микроструктур, а также фазовые модуляторы света с интерференционной технологией для непосредственного написания нано-структур.
Установка серии iGrapher представляет собой систему для формирования УФ-лучей как для прямого экспонирования микроструктур, так и для микро-нанолитографии. В системе iGrapher установлены различные функциональные оптические системы, которые применяются совместно с технологией пространственно-световой модуляции, поддерживающей формирование микроструктур, а также фазовые модуляторы света с интерференционной технологией для непосредственного написания наноструктур.
HoloMaker и HoloScan — самые мощные системы для создания дифракционных изображений, которые позволяют получать современные широкоформатные голографические системы, 3D-голограммы, оптические переменные устройства, дифракционные изображения с кинетическим эффектом и субволновые структуры на сверхбольших подложках (40"...65″ и более). Одной из особенностей этих систем является возможность непрерывно изменять шаг решетки от 300 нм до 10 мкм в период в каждом пикселе, что позволяет создавать микро-наноструктуры в одной системе.
