Фильтр
PSAT-300 — серия высокопроизводительных систем кластерного типа для классического термического атомно-слоевого осаждения различных плёнок (металлы, оксиды и нитриды металлов, High-k диэлектрики). В зависимости от применения возможен как вертикальной тип подачи прекурсоров (Showerhead), так и проточный тип реактора (Cross-Flow). Конфигурация рабочего модуля предполагает сдвоенную камеру (архитектура Twin-Chamber), а транспортный модуль позволяет подключать до четырех процессных модулей, что обеспечивает высокую пропускную способность за счет параллельной обработки до восьми пластин.
PSAP-300 — высокопроизводительная система кластерного типа для плазмостимулированного атомно-слоевого осаждения различных плёнок (SiO, SiN, SiCN), используемых в качестве жестких масок, подзатворного диэлектрика, стоп-слоёв при травлении в таких областях, как: устройства памяти (DRAM), КМОП-сенсоры (CIS), передовая упаковка (Advanced Packaging) и другие. Плазмостимулированный процесс позволяет получать более плотные плёнки, легко получать нитридные слои, а также проводить осаждение при более низких температурах, что критично для термочувствительных пластин. Конфигурация рабочего модуля предполагает сдвоенную камеру (архитектура Twin-Chamber), а транспортный модуль системы дает возможность подключать до четырех процессных модулей, обеспечивая высокую пропускную способность за счет параллельной обработки до восьми пластин.
ANA-200 — серия систем атомно-слоевого осаждения для мелкосерийного производства. Системы позволяют осаждать широкий спектр материалов, таких как металлы, оксиды, нитриды и др. Рабочие камеры серии имеют конструкцию с двумя полостями, что обеспечивает стабильность осаждения и эффективное использование прекурсоров. Системы рассчитаны на индивидуальную обработку по одной пластине диаметром до 300 мм.
ANB-200 — серия систем термического атомно-слоевого осаждения с групповой загрузкой пластин для массового производства. Возможность одновременно укладывать до 300 пластин диаметром 100 мм, что значительно увеличивает производительность и снижает эксплуатационные расходы. Рабочие камеры серии имеют конструкцию с двумя полостями, что обеспечивает стабильность осаждения и эффективное использование прекурсоров.
ANMx-200 — серия систем термического атомно-слоевого осаждения c щелевым реактором. Отличаются уникальной модульной конструкцией и оптимизированной системой подачи прекурсоров, обеспечивающей высокую стабильность процессов.
Возможность применения для производства интегральных схем, МЭМС, оптоэлектроники, перовскитных солнечных элементах и других областей.
MR200_ALD — установка для проведения процессов атомно-слоевого осаждения. Рассчитана на индивидуальную обработку по одной пластине диаметром до 200 мм. Поддерживает конфигурацию как термического ALD, так и плазменно-усиленного ALD (PEALD), обеспечивая гибкость при переходе между различными технологическими процессами. Рабочие модули системы имеют двухкамерный дизайн, что позволяет точно контролировать процесс осаждения. Возможность применения как в производстве интегральных схем (IC), силовых устройств (Power devices), передовой упаковке (Advanced Packaging), так и для научных исследований.
