Компактная система атомно-слоевого осаждения (ALD) UTA-150

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643

Компактная система атомно-слоевого осаждения (ALD) UTA-150

Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок

Печать/PDF

Описание
Технические характеристики

UTA-150 — компактная система для атомно-слоевого осаждения различных металлических и диэлектрических слоев на пластины диаметром до 150 мм. Разработана специально для нужд НИОКР в настольном исполнении.

Особенности

Применение для осаждения следующих слоев:

металлы: Ru, Ti, Co и др.
оксиды: Al₂O₃, HfO₂, TiO₂, SnO₂, ZnO, SiO₂, RuO и др.
нитриды: TiN, TaN, Si₃N₄ и др.

Однородность осаждения по толщине пластины Ø 150 мм: < ± 3 %
Ручная загрузка подложек в реактор
Минимизация объема реакционной камеры
Малые габариты: 850 × 720 × 600 мм

Тип реактора: плоскостной
Диаметр обрабатываемых пластин до 150 мм
Обработка одной пластины диаметром 150 мм за цикл. Возможность работы с фрагментами пластин
Реализация классического термического процесса осаждения
Возможность установки источника плазмы: 13,56 МГц мощностью до 600 Вт
Диапазон рабочих температур от комнатной до 350 °C
Возможность установки до трех линий подачи прекурсоров. Возможность нагрева источников до 150 °C
Быстродействующие клапаны ALD
Система откачки рабочей камеры на базе сухого форвакуумного насоса
Ручное и полуавтоматическое управление процессом

Результаты измерений слоя ZnO (А) на пластине Ø 100 мм
Верх, А	Центр, А	Низ, А	Левый край, А	Правый край, А	Среднее значение, А	Неравномерность, ±%
405	398	406	402	406	403	1,0

Компактная система атомно-слоевого осаждения (ALD) UTA-150

Особенности

Запросить в один клик

Заполните форму

Запрос оборудования на тестирование