JBX-3050MV — система литографии с электронным пучком переменной формы для шаблонов с размером элементов до 45 нм. Передовая технология обеспечивает высокую скорость, точность и надежность. Эта система EB использует электронный пучок переменной формы 50 кВ и пошаговую платформу.
Особенности
Точность сшивки: ≦±3,8 нм
Точность совмещения: ≦±7 нм
Электронный пучок: 50 кВ переменной формы
Высокая скорость письма
Высокая точность воспроизведения
Высокая надежность и гарантия результата
Запросить в один клик
Заказать звонок
Запрос оборудования на тестирование
?>
Сайт использует файлы cookie, обрабатываемые вашим браузером. Подробнее об этом вы можете узнать в Политике cookie.