Горизонтальная трубная печь HTFS-4-ATM

HTFS-4-ATM – горизонтальная трубная печь для широкого круга термических процессов при атмосферном давлении. Подходит для малосерийного и среднесерийного производства полупроводниковых изделий.

Особенности

• Атмосферные процессы: диффузия, сухое и влажное окисление, отжиг
• Опция оснащения вакуумными реакторами для процессов LPCVD
• Автоматическое управление по рецепту
• Полуавтоматическая загрузка: ручная установка пластин в лодочку с последующей автоматической загрузкой лодочки в реактор
• Система управления: PLC + SCADA-панель, программируемые рецепты, ведение журнала, удалённый мониторинг
• До четырех реакторов из кварца или карбида кремния
• Рабочая температура до 1200 °С
• Неоднородность температуры в рабочей зоне реактора в пределах ±0,5 °С
• Нагреватель с тремя или пятью зонами контроля температуры
• Загрузка до 25 пластин в один реактор
• Встроенные системы контроля безопасности: защита от перегрева, аварийное отключение газов, контроль потока охлаждающей воды

Характеристики процессов

• Неравномерность толщины SiO₂ (сухое окисление): ≤2 %
• Неравномерность толщины SiO₂ (влажное окисление): ≤2 %
• Неравномерность толщины SiO₂ (пирогенное окисление): ≤2 %
• Неравномерность поверхностного сопротивления (диффузия фосфора): ≤4 %
• Неравномерность поверхностного сопротивления (диффузия бора): ≤4 %