Полноразмерная версия установок плазменной очистки микросхем, электронных компонентов и различных изделий для среднесерийных и крупносерийных производств.
Сниженная температура процесса очистки до 50 С, защищающая поверхности материалов от тепловых повреждений
Гибкая архитектура электродов и полок-держателей
ВЧ-генератор с рабочей частотой 13,56 МГц и переменной мощностью от 0 до 1000 Вт
Интегрированное программное обеспечение, осуществляющее управление процессом и плазмой в реальном времени, запись процесса обработки, в том числе при удаленном доступе
Размеры камеры (Ш х Г х В)
550 х 675 х 550 мм
Конфигурация электродов
Положительные и отрицательные полюса можно менять местами
Количество полок под электроды
10
НЧ/ВЧ-генератор (на выбор)
13,56 МГц, 0-1000 Вт
40 кГц, 0-1000 Вт
Количество регуляторов газа
До 4
Удаленный контроль
Управление процессом; управление плазмой
Насосы
Сухой
Габаритные размеры (Ш х Г х В)
1010 х 1120 х 1715 мм
Масса
500 кг
Запросить в один клик
Заказать звонок
Запрос оборудования на тестирование
?>
Сайт использует файлы cookie, обрабатываемые вашим браузером. Подробнее об этом вы можете узнать в Политике cookie.