Система прямого лазерного экспонирования ML-M-U

ML-M-U — система безмасковой литографии с расширенными возможностями для производства фотошаблонов, интегральных схем, МЭМС, микрооптики, различных сенсоров и прочих устройств с прецизионной структурой. Позволяет экспонировать топологии высокого разрешения на подложках размером до 300×300 мм.

Подходит как для НИОКР, так и для мелкосерийного производства.

Особенности

• Технология пространственной модуляции света на базе матрицы цифровых микрозеркал (DMD)
• Дифракционная оптика (опция)
• Функция экспонирования в градациях серого, 128 / 256 / 1024 градации (опция)
• Система термостабилизации воздуха в рабочей зоне
• Функция автоматического совмещения слоев по меткам
• Система автоматической стабилизации энергии лазера