Система электронно-лучевой литографии высокого разрешения UED-100

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643

Система электронно-лучевой литографии высокого разрешения UED-100

Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок

Печать/PDF

Описание
Технические характеристики

UED-100 — система электронно-лучевой литографии, которая отличается высокой эффективностью и компактностью, обеспечивая уверенную работу в режиме высокой производительности и максимальной точности. Лазерное позиционирование и автофокус гарантируют сшивку ±10 нм и формирование линий 8 нм.

Особенности

Электронная пушка с высоким тепловым полем эмиссии 100 кэВ
Высокоскоростной электростатический затвор луча
Технология линз с переменным фокусом
Режим высокой пропускной способности и режим высокой точности
20-битный генератор шаблонов
Многоступенчатое электростатическое отклонение
Однослойная ортогональная структура
Лазерное интерферометрическое позиционирование и лазерное автофокусирование
Поддержка экспонирования 6-дюймовых пластин

Ускоряющее напряжение: 100 кВ
Максимальный ток пучка: 100 нА
Диаметр пучка электронов: 2,9 нм
Максимальное поле записи: 1000 × 1000 мкм
Скорость сканирования: 100 МГц
Точность сшивки: ±10 нм
Точность наложения: ±10 нм
Минимальная ширина линии: 8 нм

Система электронно-лучевой литографии высокого разрешения UED-100

Особенности

Запросить в один клик

Заполните форму

Запрос оборудования на тестирование