Система электронно-лучевой литографии высокого разрешения UED-100

UED-100 — система электронно-лучевой литографии, которая отличается высокой эффективностью и компактностью, обеспечивая уверенную работу в режиме высокой производительности и максимальной точности. Лазерное позиционирование и автофокус гарантируют сшивку ±10 нм и формирование линий 8 нм.

Особенности

• Электронная пушка с высоким тепловым полем эмиссии 100 кэВ
• Высокоскоростной электростатический затвор луча
• Технология линз с переменным фокусом
• Режим высокой пропускной способности и режим высокой точности
• 20-битный генератор шаблонов
• Многоступенчатое электростатическое отклонение
• Однослойная ортогональная структура
• Лазерное интерферометрическое позиционирование и лазерное автофокусирование
• Поддержка экспонирования 6-дюймовых пластин