JBX-3050MV — система литографии с электронным пучком переменной формы для шаблонов с размером элементов до 45 нм. Передовая технология обеспечивает высокую скорость, точность и надежность. Эта система EB использует электронный пучок переменной формы 50 кВ и пошаговую платформу.