Система прямого лазерного экспонирования ML-M-S

ML-M-S — система безмасковой литографии базового уровня для производства фотошаблонов, интегральных схем, МЭМС, микрооптики, различных сенсоров и прочих устройств с прецизионной структурой.

Хорошо подходит для задач НИОКР благодаря гибкой системе программирования технологического процесса.

Особенности

• Технология пространственной модуляции света на базе матрицы цифровых микрозеркал (DMD)
• Дифракционная оптика
• Функция экспонирования в градациях серого, 128 / 256 / 1024 градации
• Система термостабилизации воздуха в рабочей зоне
• Оптическая системы с экспонирующим объективом кратностью 100Х
• Функция автоматического совмещения слоев по меткам
• Модульная конструкция с отдельностоящим ПК и электрическим шкафом