Атомно-слоевое осаждение (АСО) — процесс контролируемого выращивания тонких пленок с возможностью управления толщиной осаждаемого слоя на атомарном уровне.
АСО-технология (в англ. литературе ALD — Atomic Layer Deposition) применяется при производстве солнечных элементов, плоских панельных дисплеев, микропроцессоров, головок чтения для жестких дисков и т. д., а также при проведении научно-исследовательских работ и в разработках в области микро- и наносистемной техники. Тонкие пленки, полученные методом АСО, характеризуются высокой однородностью, прецизионным контролем толщины и практически полным отсутствием дефектов.