MEpi-450 – система молекулярно-лучевой эпитаксии для научно-исследовательских применений с ручным перемещением образцов. Имеет гибкую конфигурацию различных типов эффузионных источников, что позволяет проводить эпитаксиальный рост различных материалов и их стеков, а также исследовать структуры благодаря возможности интеграции систем in-situ измерений.
Особенности
Процессы эпитаксии на подложках диаметром до 3″
Двухосный магнитный манипулятор для совмещения функций подъема и телескопического движения подложкодержателя, что упрощает операции перемещения образца
Специально подобранная система откачки модулей для достижения сверхвысокого вакуума
Возможность размещения до четырёх различных адаптеров в загрузочном модуле
Диаметр камеры: 450 мм
Максимальный диаметр подложки: 3″
Максимальная температура нагревателя подложек: 1000 °С
Температурная стабильность нагревателя: ± 0,2 °C при 300 ⁰C
Максимальная скорость вращения подложек: 60 об/мин
Конфигурация источников — 10 шт.: 3×CF35, 7×CF63
Переходные фланцы: CF150
Температура предварительного нагрева (bakeout): 200 °С