Установка эвтектического монтажа K650 – это высокоточное автоматическое оборудование для формирования высокопрочных соединений между кристаллом и корпусом или подложкой методом эвтектической пайки. Данная технология широко востребована при производстве оптоэлектронных компонентов, мощных СВЧ-транзисторов, лазерных диодов и других изделий, где требуется обеспечить как высокую теплопроводность, так и надежность соединения для обеспечения работоспособности в условиях непрерывного термоциклирования конечного изделия.
Установка оснащена специализированной системой быстрого нагрева рабочей зоны, обеспечивающей формирование эвтектического расплава на границе раздела кристалл-подложка. Точный контроль температуры в зоне монтажа гарантирует стабильность процесса и минимизирует термические напряжения в кристалле.
Особенности
Идеальное решение для оптоэлектронных компонентов, мощных СВЧ-транзисторов и лазерных диодов с размерами кристаллов до 25 х 25 мм
Минимизация термических напряжений благодаря точному контролю температуры в диапазоне от 100 до 450 °C с точностью поддержания ±2-3 °C
Равномерное распределение расплава по всей площади контакта с усилием прижима от 10 до 500 г с шагом регулировки 1 г
Микронная точность установки кристаллов: погрешность позиционирования по осям X/Y составляет ±3 мкм, по углу поворота – ±1°
Двухкамерная система технического зрения с разрешением камер 200 мегапикселей и увеличением 50-200х для одновременного контроля положения кристалла и посадочного места
До 1 минуты на прохождение одного полного цикла монтажа кристалла (зависит от параметров процесса)
Возможность автономной работы или интеграции в автоматизированные производственные линии с поддержкой протоколов SECS/GEM и SMEMA
Технические характеристики
Тип монтажа
Эвтектический
Тип припоя
Золото-олово
Диапазон перемещения по осям X/Y/Z
200×320×50 мм
Точность монтажа
±3 мкм @ 3σ
Угловое перемещение
±180°
Усилие монтажа
5 — 300 г
Зона нагрева
25×25 мм
Температура нагрева
До 400 °C
Максимальная скорость нагрева
До 100 °C/сек (зависит от начальной температуры)
Система обдува нагреваемой области инертным газом
Наличие
Тип подачи кристаллов/заготовок
Waffle/Gel-Pak 2″ (до 24 шт.)
Метод подачи кристаллов/заготовок
Ручная
Устройство смены инструмента
Автоматическая станция на 12 инструментов
Электропитание
AC 220 В±10 %, 50 Гц, 10 А
Габаритные размеры (Ш xГ xВ)
1320×1400×1900 мм
Масса
1000 кг
Запросить в один клик
Заказать звонок
Запрос оборудования на тестирование
?>
Сайт использует файлы cookie, обрабатываемые вашим браузером. Подробнее об этом вы можете узнать в Политике cookie.