Полуавтоматическая установка отмывки пластин после механической обработки CMP clean 200S

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643

Полуавтоматическая установка отмывки пластин после механической обработки CMP clean 200S

Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок

Печать/PDF

Описание
Технические характеристики

CMP clean 200S — установка отмывки после процессов механической и химико-механической обработки для мелкосерийного производства и НИОКР. Однокамерная конструкция обеспечивает одностороннюю щеточную отмывку, промывку деионизированной водой и комбинированную сушку.

Особенности

Однокамерная установка с ручной загрузкой
Двусторонняя щеточная отмывка мегазвуком
Комбинированная сушка: центрифугирование + подача азота
Три независимых канала подачи моющих растворов
Управление на базе ПЛК

Максимальный диаметр пластин: 8 дюймов
Максимальная скорость центрифуги до 2000 об/мин
Максимальная скорость вращения щёток до 200 об/мин
Система управления: ПЛК
Габариты (Ш×Г×В): 900 × 900 × 2200 мм

Полуавтоматическая установка отмывки пластин после механической обработки CMP clean 200S

Особенности

Запросить в один клик

Заполните форму

Запрос оборудования на тестирование