Система плазмохимического осаждения из газовой фазы (PECVD) для пластин диаметром до 200 мм PECVDS-4

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643

Система плазмохимического осаждения из газовой фазы (PECVD) для пластин диаметром до 200 мм PECVDS-4

Осаждение слоя на базе TEOS на структуры

Статистический контроль процесса. Однородность коэффициента преломления (RI) при осаждении слоя SiO2 толщиной 1 мкм

Статистический контроль процесса. Однородность коэффициента преломления (RI) при осаждении слоя SiN толщиной 1 мкм

Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок

Печать/PDF

Описание
Технические характеристики

PECVDS-4 — установка для плазмохимического осаждения тонких плёнок соединений кремния с загрузкой по одной пластине. Дает возможность осаждать такие слои, как: α-Si, SiO₂, SixNy, PSG, BPSG. Транспортный модуль системы позволяет подключение до двух процессных модулей PECVD/SACVD и автоматическое перемещение пластин на протяжении всего процесса. Обеспечивает разнообразие техпроцессов, простоту обслуживания и отличные характеристики тонких пленок.

Поддержка работы с пластинами: Ø4"/Ø6"/Ø8’’
Четырёхгранный транспортный модуль. Возможность установки двух модулей осаждения, одного модуля охлаждения пластин и модуля загрузки/выгрузки пластин из кассет
Перемещение пластин между камерами в вакууме без экспозиции на атмосферу
Возможна реализация в виде полуавтоматической системы с ручной загрузкой пластин через вакуумный шлюз
Система генераторов:

ВЧ: 13,56 МГц
НЧ: 350 кГц

Нагрев подложкодержателя до 400 ⁰C (550 ⁰C для SA-процессов)
Методики очистки рабочей камеры:

стандартное решение на основе C_XF_Y
возможность установки модуля удалённого источника плазмы (RPS): NF₃+ Ar

Высокая однородность осаждения (<5 % по пластине, <5 % от пластины к пластине)
Низкая привнесенная дефектность (≤30 шт. @ ≥0,2 мкм)

Система плазмохимического осаждения из газовой фазы (PECVD) для пластин диаметром до 200 мм PECVDS-4

Запросить в один клик

Заполните форму

Запрос оборудования на тестирование