Автоматическая система молекулярно-лучевой эпитаксии MEpi-450A для пластин диаметром до 3"

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643

Автоматическая система молекулярно-лучевой эпитаксии MEpi-450A для пластин диаметром до 3"

Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок

Печать/PDF

Описание
Технические характеристики

MEpi-450A — полностью автоматизированная система для процессов молекулярно-лучевой эпитаксии на подложках диаметром до 3″ для опытного и мелкосерийного производства. Оснащена системой мониторинга in-situ для контроля состояния роста в реальном времени. Проста в эксплуатации и обслуживании благодаря автоматизации

Особенности

Полностью автоматизированные операции по МЛЭ: перемещение образца, калибровка потока, эпитаксиальный рост и т. д.
Четыре кассеты в загрузочном модуле, три — в буферной камере
Оснащение дифрактометром быстрых электронов (RHEED), системой мониторинга потоков пучков (BFM) и анализатором остаточных газов (RGA)
Большое количество портов для установки оборудования мониторинга in-situ для улучшения и расширения системы
Удобное управление системой, простой и понятный интерфейс
Оснащение системой защитных блокировок и функциями предотвращения неправильной работы
Модульная многокамерная конфигурация с независимыми насосами и затворами для каждой камеры, облегчающая ежедневное обслуживание

Диаметр камеры: 450 мм
Максимальная температура нагревателя подложек: 1000 °С
Температурная стабильность нагревателя подложек: ±0,2 °C
Максимальный диаметр подложки: 3”
Максимальная скорость вращения подложек: 60 об/мин
Конфигурация источников: 10 x CF80
Температура предварительного нагрева (bakeout): 200 °С
Дифрактометр быстрых электронов (RHEED): 15-30 кэВ
Анализатор остаточных газов (RGA): 0-200 аем
Максимальная температура нагревателя предварительной обработки подложек: 800 °С
Кластерный робот:

переходный фланец: СF150
перемещение по осям XY: 1010 мм
перемещение по оси Z: 50 мм

Опциональные модули:

ИК-лампа для модуля загрузки
второй загрузочный модуль
система нейтрализации продуктов реакции
CCD-камера для контроля
LED-система подсветки
станция для откачки модулей во время обслуживания на базе турбомолекулярного насоса (ТМН)
система мониторинга пучка методом атомно-абсорбционной спектроскопии (AASFM)
система контроля температуры при помощи анализа спектра поглощения вблизи края запрещённой зоны (BETM)