RTP-200 — система для термической обработки пластин в вакууме или инертной среде для различных процессов, таких как: быстрый термический отжиг, окисление, образование диэлектрической пленки, послеимплантационный отжиг, пайка эвтектическим сплавом (реактивная пайка металлов), образование силицидов (TiSi, CoSi...), образование соединения кремния с металлом и др. в условиях как лабораторного, так и мелкосерийного производства.
Размер образцов и пропускная способность
Одна пластина размером до 200 мм
Температура нагревателя
До 1250 °С
Температурная неравномерность
±3 °С
Технологические газы
До трех каналов (контролируются регуляторами массового расхода)
Предельный вакуум
≤5×10-3 Торр (1×10-6 Торр опционально)
Вакуумный насос
Роторный (турбомолекулярный, безмасляный)
Управление процессом
Ручное
Запросить в один клик
Заказать звонок
Запрос оборудования на тестирование
?>
Сайт использует файлы cookie, обрабатываемые вашим браузером. Подробнее об этом вы можете узнать в Политике cookie.