Полуавтоматическая установка нанесения фоторезиста методом центрифугирования SASC811

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643

Полуавтоматическая установка нанесения фоторезиста методом центрифугирования SASC811

Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок

Печать/PDF

Описание
Технические характеристики

SASC811 — установка нанесения фоторезиста методом центрифугирования для обработки по одной пластине в условиях мелкосерийного производства и НИОКР. Совместима с пластинами до Ø200 мм, а также прямоугольными подложками, загрузка и выгрузка осуществляется вручную. Установка работает в автоматическом режиме по рецепту, подача резистов может осуществляться как прецизионным дозирующим насосом, так и вручную при помощи шприцев. Доступна установка сопел для удаления краевого валика и отмывки обратной стороны.

Особенности

Ручная загрузка пластин
Автоматическое нанесение фоторезиста по рецепту
Автоматическое дозирование фоторезиста прецизионным литографическим насосом
Функции автоматического удаления краевого валика и отмывки обратной стороны пластины
Работа с подложками диаметром до 200 мм
Высокоточный сервомотор со скоростью вращения до 6000 об/мин и высоким ускорением
Механическое устройство центрирования подложек
Фильтровентиляционный модуль и вытяжка

Скорость вращения шпинделя до 6000 об/мин
Точность скорости вращения: ± 1 об/мин
Минимальный шаг скорости вращения: 1 об/мин
Ускорение от 100 до 20000 об/мин в секунду
Вязкость ФР до 100 или 1500 сП
Функция обратного хода насоса для предотвращения капания резиста из сопла
Подача растворителя насосом или давлением N₂

Данные процессов

Пластина	Центр	Справа	Сверху	Слева	Снизу	max-min	Ср. знач.	Неравномерность, %
1	41.26	41.66	41.76	41.88	41.72	0.62	41.656	0,744
2	41.28	41.73	41.61	41.56	41.76	0.48	41.588	0,577
3	41.33	41.67	41.56	41.92	41.01	0.91	41.498	1,096
4	41.09	41.6	41.51	41.27	41.63	0.54	41.42	0,652
5	41.58	41.44	41.07	41.39	41.46	0.51	41.388	0,616
6	55.19	55.7	55.54	55.47	55.19	0.51	55.418	0,460
7	55.09	55.55	55.7	55.97	55.57	0.88	55.576	0,792

Данные испытаний по нанесению ФР на пластины сапфира (неоднородность ≤1,5 %)

Полуавтоматическая установка нанесения фоторезиста методом центрифугирования SASC811

Особенности

Запросить в один клик

Заполните форму

Запрос оборудования на тестирование