Система проекционной литографии ASML PAS5500/100D

ASML PAS 5500/100D — это проекционный i-line степпер для фотолитографии. Установка использует ртутную лампу с длиной волны 365 нм для формирования на кремниевой пластине микроскопических структур с проектными нормами до 0,3 — 0,4 микрон. Процесс включает точное позиционирование пластины (шаг), совмещение её с фотошаблоном (маской) и последующую экспозицию ультрафиолетовым светом для переноса схемы. Аппарат предназначен для обработки пластин диаметром 150 мм (6 дюймов) и 200 мм (8 дюймов.

ASML PAS 5500/100D — эталон надёжности и рентабельности для производств, не требующих самых передовых техпроцессов, но нуждающихся в высочайшей стабильности и низкой стоимости владения.

Особенности

• Точность наложения слоев: ~60 нм
• Разрешение: 0,4 мкм
• Изменяемая апертура: 0,48 — 0,6
• Интенсивность излучения: >900 мВт/см²
• Равномерность излучения: <1,5 %
• Источник излучения: i-line 365 нм
• Производительность: >75 пл./час (200 мм), >100 пл./час (150 мм)