Установка плазмохимического травления металлических слоев

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643

Установка плазмохимического травления металлических слоев

Результаты технологических процессов. Травление алюминия

Результаты технологических процессов. Травление нижнего и промежуточного металлического слоя

Результаты технологических процессов. Травление различных металлических слоев

Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок

Печать/PDF

Описание
Технические характеристики

ET-ME — кластерная установка плазмохимического травления металлических слоев с камерой антикоррозийной обработки. Позволяет управлять профилем травления, обладает хорошими показателями однородности, широким технологическим окном, а также функцией автоматической очистки камеры между пластинами для уменьшения среднего времени между чистками (MTBC).

Особенности

Хорошие показатели однородности травления металлических слоев (< 5 %)
Проведение антикоррозийной обработки после травления металлов без экспозиции пластины на атмосферу
Камера травления металлов
Камера антикоррозийной обработки
Широкое технологическое окно процесса

Размер пластин	Ø 4, 6, 8 дюймов
Материалы для травления	AlCu, Ti / TiN, W, Mo, т.п.
Применение	Травление металлических разводок и контактных площадок
Модуль	Составные части	Примечание
Рабочая камера травления металлов	Рабочая камера	Анодированный алюминий
	Источник плазмы	Индукционно-связанная плазма (TCP)
	Подложкодержатель	— Биполярный керамический с электростатическим прижимом пластины (ESC) для Ø 6- и 8-дюймовых пластин — Механический прижим для Ø 4-дюймовых пластин — Контроль температуры при помощи чиллера
	ВЧ-генераторы	Источник плазмы: частота 13,56 МГц, мощность 2 кВт Смещение на пластину: частота 13,56 МГц, мощность 600 Вт
	Система контроля окончания процесса (опционально)	Оптическая эмиссионная спектроскопия, полный спектр
Система подачи газов		Контроль при помощи регуляторов расхода газа (РРГ): до 12 шт.
Вакуумная система камеры травления металлов	Турбомолекулярный насос (ТМН) и сухой форвакуумный насосы
Контроль давления камеры травления металлов	Маятниковый клапан	Для контроля давления в процессе
	Вакуумметры		Для процесса
			Для контроля процесса откачки и напуска
Камера антикоррозийной обработки	Рабочая камера	AL6061
	Источник плазмы	Микроволновый источник, частота 2,45 ГГц, мощность 3 кВт
	Подложкодержатель	Алюминий с анодированным покрытием
	Температура подложкодержателя	50 ÷ 300 ⁰C
	Система контроля окончания процесса (опционально)	Оптическая эмиссионная спектроскопия, полный спектр
Система подачи газов камеры антикоррозийной обработки	Контроль при помощи регуляторов расхода газа (РРГ)	≤ 4 шт.
	Система подачи водяного пара (VDS)	1 шт.
Вакуумная система камеры антикоррозийной обработки	Сухой форвакуумный насос
Контроль давления камеры антикоррозийной обработки	Дроссельный клапан	Для контроля давления в процессе
	Вакуумметры		Для процесса
			Для контроля процесса откачки и напуска
Загрузочный модуль	Подъемник кассет (VCE) или загрузка через SMIF-контейнеры: один или два модуля
Модуль транспортировки пластин	Вакуумный робот
	Вакуумный модуль выравнивания пластин

Установка плазмохимического травления металлических слоев

Особенности

Запросить в один клик

Заполните форму

Запрос оборудования на тестирование