Заказать звонок +7 495 788-44-44
Меню
ПОИСК ПО САЙТУ
Каталог товаров Сборочное производство Полупроводниковое производство
АОИ, тестирование и контроль Инженерные решения для ЧПП
Расходные материалы
О компании Демозал Карьера Политика конфиденциальности Сертификаты Пресс-центр Каталог оборудования Решения «под ключ» МЭМС ГИС Биочипы Фотоника Радиоэлектроника Силовая электроника СВЧ
Услуги и сервис Сервис и модернизация Запасные части: 4MICRO.RU Технология Обучение персонала Сервис-деск База знаний Каталоги и брошюры Статьи Технологии Вебинары Личный кабинет Личные данные Ваше оборудование Заявки на сервис Анкеты Задать вопрос Лист запросов Подписка
Контакты
+7 495 788-44-44
Сервисный центр
8 800 700-39-39
+7 495 788-44-44
Сервисный центр
8 800 700-39-39

Серия систем атомно-слоевого осаждения (ALD) с групповой обработкой пластин ANB-200

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643
Серия систем атомно-слоевого осаждения (ALD) с групповой обработкой пластин ANB-200 Результаты термического осаждения слоя Al2O3 толщиной 120 нм на сапфировые подложки Равномерность осаждения AlN по пластине диаметром 150 мм Шероховатость слоя AlN Равномерность осаждения TiO2 по пластине диаметром 150 мм
Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок
Печать/PDF

ANB-200 — серия систем термического атомно-слоевого осаждения с групповой загрузкой пластин для массового производства. Возможность одновременно укладывать до 300 пластин диаметром 100 мм, что значительно увеличивает производительность и снижает эксплуатационные расходы. Рабочие камеры серии имеют конструкцию с двумя полостями, что обеспечивает стабильность осаждения и эффективное использование прекурсоров.

Особенности

  • Для массового производства на пластинах диаметром до 150 мм
  • Групповая обработка пластин
  • Двухкамерная конструкция рабочего модуля
  • Реализация классического термического процесса атомно-слоевого осаждения
  • Загрузка пластин в специальных кассетах
  • Инжекционный тип подачи прекурсоров
  • Программное обеспечение собственной разработки

  • Двухкамерная конструкция:
    • внутренняя реакционная камера: нержавеющая сталь 316L
    • внешняя камера: нержавеющая сталь 316L
    • кольцевой электрический нагреватель, расположенный с внешней стороны внутренней реакционной камеры, мощностью до 6 кВт
  • Максимальная температура процесса: 500 °C
  • Подача прекурсоров и газа-носителя в реакционную камеру через инжекторную систему в нижней части камеры
  • Быстродействующие клапаны ALD: время срабатывания ≤ 10 мс
  • Использование регуляторов расхода газа (РРГ) для продувочных газов и газа-носителя
  • Источники прекурсоров и рабочие газы, расположенные в газовом шкафу:
    • возможность установки до 6 источников прекурсоров
    • установка как холодных, так и подогреваемых источников
    • нагрев источников до 300 °C с точностью ±1 °C
  • Использование N2 для продувки камеры между прекурсорами
  • Система откачки рабочего модуля на базе сухого насоса
  • Система контроля давления
  • Скорость роста за один цикл (GPC): > 0,5 А/цикл
  • Неравномерность осаждения (1 σ): < ± 1,5 % по пластине


1Лист запросов
В лист запросов →
+7 495 788-44-44
Сервисный центр
8 800 700-39-39
© 2020 ООО «Остек-ЭК»
?>
Сайт использует файлы cookie, обрабатываемые вашим браузером. Подробнее об этом вы можете узнать в Политике cookie.
ПринятьНастроитьОтклонить