ATCD-200C — компактная автоматическая установка для нанесения и проявления фоторезиста. Поддерживает работу с материалами различной вязкости, обеспечивая контролируемое формирование покрытий и высокое качество обработки подложек. Оптимальна для тестирования технологических процессов и малосерийного производства.
Особенности
Работа с пластинами различного размера
Две процессные камеры и восемь модулей сушки
Полностью автоматическая передача пластин роботом
Система пониженного расхода резиста (RRC)
Система удаления краевого валика
Работа с пластинами до Ø 8 дюймов
Ускорение центрифуги модуля нанесения до 30 000 об/мин/сек
Ускорение центрифуги модуля проявления до 30 000 об/мин/сек
Точность поддержания температуры подачи резиста/проявителя: 0,1 ℃
Точность поддержания температуры модуля сушки до 1,0 ℃
Точность поддержания температуры модуля охлаждения: ±0,2 ℃