Система электронно-лучевого испарения с одной камерой EB50

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643

Система электронно-лучевого испарения с одной камерой EB50

Крепление пластин при планетарном типе подложкодержателя

Крепление пластин при карусельном типе подложкодержателя

Источник электронно-лучевого испарения с затвором

Ионный источник для предварительной очистки пластин

Результаты технологических процессов. Осаждение плёнки SiO2

Результаты технологических процессов. Осаждение слоя MgO

Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок

Печать/PDF

Описание
Технические характеристики

EB50 — однокамерная автоматическая система, которая является высокоточным комплексом для осаждения тонкоплёночных покрытий в вакууме методом испарения материалов под воздействием электронного луча. Это идеальное решение для создания многослойных структур, оптических покрытий и проводящих слоёв там, где требуется чистый и контролируемый процесс. Система разработана для серийного производства с групповой загрузкой пластин.

Особенности

Поддержка работы с пластинами диаметром 2÷12 дюймов
Установка подложкодержателей карусельного или планетарного типов
Возможность проведения процессов осаждения под lift-off процессы
Держатель, позволяющий размещение большого количества пластин
Привод вращения держателя пластин с регулируемой скоростью
Модуль предварительной очистки поверхности пластин на базе ионного источника
Неоднородность толщин плёнок:

по пластине (WiW): ≤ ± 3 %
от пластины к пластине (WtW): ≤ ± 3 %

In-situ контроль процесса осаждения

Параметр	Значение / описание
Материалы для напыления	Ti, Ni, Ag, Au, Al, Cr, V, Cu, SiO₂ и др.
Максимальный диаметр подложки	До 300 мм
Подложкодержатель	Скорость вращения: 0 ÷ 30 об./мин Загрузка при планетарном типе крепления (три держателя): - Ø пластины Ø 100 мм: 3 × 27 шт. - Ø пластины Ø 150 мм: 3 × 12 шт. - Ø пластины Ø 200 мм: 3 × 6 шт.
Рабочая камера	Камера из нержавеющей стали (SUS304) с ручным открыванием фронтальной двери Смотровое окно с заслонкой Сменные экраны из нержавеющей стали (SUS304)
Нагрев и охлаждение	Контроль температуры стенок камеры при помощи теплообменника
Нагреватель подложки	ИК-нагрев при помощи ламп Макс. температура: 300 °C Точность поддержания заданной температуры при 200 °C: ± 5 °С
Источник электронно-лучевого испарения	- Источник питания мощностью 10 кВт с напряжением смещения вдоль X/Y осей - Револьверный механизм смены тиглей: 6÷8 тиглей ёмкостью 40 см³ каждый - Угол отклонения луча: 270⁰ - Ускоряющее напряжение: от - 4 до - 10 кВ постоянного тока - Ток эмиссии: 0÷1 А при ускоряющем напряжении - 10 кВ - Контроль луча: цифровое управление разверткой
Источник ионов	Ионный источник Кауфмана Регулятор расхода газов: Ar, O2
Контроль толщины слоёв	Кварцевый датчик револьверного типа на 6 позиций (QCM) Контроллер системы
Вакуумная система	Криогенный насос, скорость откачки 15000 л/с Криокомпрессор · Возможность установки турбомолекулярного насоса по запросу Предельный вакуум <1,0 × 10⁻⁵ Па
Измерение вакуума	Широкодиапазонный вакуумметр Вакуумметр Пирани
Управление системой	Управление при помощи ПК на базе Windows ПО собственной разработки Режим управления: ручной и автоматический Возможность отображения, корректировки и сохранения параметров процессов
Габаритные размеры системы со вспомогательным оборудованием (Ш × Г × В)	1800 × 1500 × 2000 мм

Система электронно-лучевого испарения с одной камерой EB50

Особенности

Запросить в один клик

Заполните форму

Запрос оборудования на тестирование