Горизонтальная трубная печь HTFX-4-ATM

HTFX-4-ATM – горизонтальная трубная печь для широкого круга термических процессов при атмосферном давлении. Подходит для среднесерийного и крупносерийного производства полупроводниковых изделий.

Особенности

• Атмосферные процессы: диффузия, сухое и мокрое оксидирование, отжиг
• Возможность оснащения вакуумными реакторами для процессов LPCVD
• Автоматическое управление по рецепту, ручная загрузка пластин в лодочки
• До четырех реакторов из кварца или карбида кремния
• Рабочая температура до 1200 °С
• Неоднородность температуры в рабочей зоне реактора в пределах ±0,5 °С
• Нагреватель с тремя или пятью зонами контроля температуры
• Загрузка до 25 пластин в реактор

Характеристики процессов

• Неравномерность толщины SiO2 (сухое оксидирование): ≤2 %
• Неравномерность толщины SiO2 (оксидирование в парах воды): ≤2 %
• Неравномерность толщины SiO2 (пирогенное оксидирование): ≤2 %
• Неравномерность поверхностного сопротивления (диффузия фосфора): ≤ 4%
• Неравномерность поверхностного сопротивления (диффузия бора): ≤4 %