Система от технологического лидера в области промышленной очистки газов — эффективно снижает вредные выбросы, в том числе таких газов, как: CF4, SF6 и NF3.
Система PWS-500 сочетает в себе методы жидкостной очистки с преимуществами плазменных реакций, повышая эффективность удаления загрязняющих веществ.
Использование плазмы способствует усилению химических реакций, что позволяет снизить объём жидкости, необходимой для достижения высокой степени очистки, и, как следствие, уменьшить потребление воды, делая систему более экологичной.
Оборудование является типовым для обработки газов, используемых в процессах CVD и травления.
Особенности
Общие характеристики оборудования:
- Эффективность очистки газа: более 99 %
- Длительный срок службы электрода горелки
- Переменная мощность плазмы: 7 ~ 20 кВт
- Производительность: 500 л/мин
- Размеры (Д х Г х В): 850×1000×2100 мм
- Электропитание: 220 В/380 В, 50/60 Гц 3 фазы, 100 А/50 А
Преимущества:
- Высокое время безотказной работы
- Низкие эксплуатационные затраты
- Гибкая конфигурация системы, адаптированная под требования процесса
Типовые сферы применения:
- Получение полупроводниковых структур
- Изготовление LED-элементов
-
Химическая промышленность
Схема установки
Газы и реакции для их очистки
