Заказать звонок +7 495 788-44-44
Меню
ПОИСК ПО САЙТУ
Каталог товаров Сборочное производство Полупроводниковое производство
АОИ, тестирование и контроль Инженерные решения для ЧПП
Расходные материалы
О компании Демозал Карьера Политика конфиденциальности Сертификаты Пресс-центр Каталог оборудования Решения «под ключ» МЭМС ГИС Биочипы Фотоника Радиоэлектроника Силовая электроника СВЧ
Услуги и сервис Сервис и модернизация Запасные части: 4MICRO.RU Технология Обучение персонала Сервис-деск База знаний Каталоги и брошюры Статьи Технологии Вебинары Личный кабинет Личные данные Ваше оборудование Заявки на сервис Анкеты Задать вопрос Лист запросов Подписка
Контакты
+7 495 788-44-44
Сервисный центр
8 800 700-39-39
+7 495 788-44-44
Сервисный центр
8 800 700-39-39

Автоматическая установка обработки фоторезиста ATCD-200N

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643
Автоматическая установка обработки фоторезиста ATCD-200N Схема установки Модуль нанесения Модуль проявления Робот Модуль ГМДС Модуль сушки Модуль охлаждения Фото процессов. Фоторезист: KMP-C7600(8cp) Толщина слоя: 0,87 мкм Неравномерность: 0,3 % Фото процессов. Фоторезист: KMP-C8350(50cp) Толщина слоя: 5 мкм Неравномерность: 0,3 %
Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок
Печать/PDF

ATCD-200N — автоматическая система нанесения и проявления фоторезиста. Обеспечивает обработку материалов различной вязкости, позволяя достигать высокой точности и стабильности процессов.

Предназначена для выполнения процессов нанесения фоторезиста и его последующего проявления, включая операции подготовки поверхности и контроля ключевых параметров.

Особенности

  • Работа с пластинами разного размера
  • Четыре процессные камеры и 18 модулей сушки
  • Система пониженного расхода резиста (RRC)
  • Система удаления краевого валика

  • Работа с пластинами до Ø 8 дюймов
  • Ускорение центрифуги модуля нанесения до 30 000 об/мин/сек
  • Ускорение центрифуги модуля проявления до 30 000 об/мин/сек
  • Точность поддержания температуры подачи резиста/проявителя: 0,1 ℃
  • Диапазон температуры модуля ГМДС: 50-180 ℃
  • Точность поддержания температуры модуля сушки до 1,0 ℃
  • Точность поддержания температуры модуля охлаждения: ±0,2 ℃
  • Производительность до 190 пластин в час
  • Применяемые технологии: g-line, i-line, PI



1Лист запросов
В лист запросов →
+7 495 788-44-44
Сервисный центр
8 800 700-39-39
© 2020 ООО «Остек-ЭК»
?>
Сайт использует файлы cookie, обрабатываемые вашим браузером. Подробнее об этом вы можете узнать в Политике cookie.
ПринятьНастроитьОтклонить