Автоматические системы совмещения и экспонирования EVG 620NT и 6200NT

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643

Автоматические системы совмещения и экспонирования EVG 620NT и 6200NT

EVG®620NT 5 кассетный модуль подачи пластин

Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок

Печать/PDF

Описание
Технические характеристики

EVG^®620NT и EVG^®6200NT — автоматические системы совмещения и экспонирования фотошаблона с пластиной, которые позволяют работать с подложками различных размеров, начиная от 5 мм и до 150 мм (для EVG^®620NT) и от 3 дюймов до 200 мм (EVG^®6200NT).

Данные системы оснащены новыми современными функциями, в том числе гранитным основанием, активной виброизоляцией и линейными двигателями для удовлетворения требований высокой точности и пропускной способности. Эти новые системы, созданные на самых гибких и универсальных платформах EVG, позволяют производителям легко перестраиваться по объему производства от НИОКРов до серийного производства, от простого процесса передачи «один к одному» до полной автоматизации. Скорость и простота перехода к серийному производству сочетается с улучшением точности совмещения, что обеспечивает значительную выгоду обладанием данных систем в стоимостном отношении.

Технические характеристики	EVG^®620NT	EVG^®6200NT
Размеры пластины/подложки	2˝, 3˝, 100 мм, 150 мм 150×150 мм	3˝, 100 мм, 150 мм, 200 мм 200×200 мм
Толщина	0,1-10 мм (для конфигурации с совмещением по верхней стороне)
Максимальный размер маски/толщина	до 7˝ х 7˝ / < 7 мм	до 9˝ х 9˝ / < 7 мм
Метод совмещения
По верхней стороне	± 0,5 мкм
По нижней стороне	± 1,0 мкм (опция)
Просвечивающее ИК-совмещение	Опция (зависит от подложки)
Совмещение с большим зазором	± 1,25 мкм (опция)
Совмещение для процесса сварки	Опция
NanoAlign^®	Опция
Координатный стол
Микрометрические винты	С ручным управлением/моторизированные (опция)
Контактное усилие	Регулируемое от 5Н до 40Н, спейсеры для экспонирования с зазором (опция)
Виброизоляция	Пассивная/активная (опция)
Экспонирование
Режимы	Вакуумный контакт, мягкий, жесткий контакт, экспонирование с зазором
Разрешение	≤0,8 мкм в вакуумном контакте
Длина волны	200 — 240 нм \| 240 — 280 нм \| 280 — 350 нм \| 350 — 450 нм фильтры (опция)
Дуговая ртутная лампа	350 Вт, 500 Вт, 1000 Вт	500 Вт, 1000 Вт
Наноимпринтная литография (опция)
Доступны опциональные инструменты для УФ-наноимпринтной литографии и микроконтактной печати, позволяющей получить размер элемента до 50 нм

Документация

Скачивание файлов доступно только авторизованным пользователям

Автоматические системы совмещения и экспонирования фотошаблона с пластиной EVG 620NT и EVG 6200NT.pdf 0.804 Мб

Технологии

Автоматические системы совмещения и экспонирования EVG 620NT и 6200NT

Запросить в один клик

Заполните форму

Запрос оборудования на тестирование