Система ионной имплантации на средних токах IMX-3500

IIS-3500 — высококлассный ионный имплантер для использования в процессах изготовления полупроводников. Применяется для внедрения ионов в материал подложки с целью достижения заданных характеристик, таких как: функциональность устройства, улучшенные электрические свойства и расширенный диапазон рабочих температур.

Оснащен несколькими технологиями:

• продвинутое управление ионным пучком
• высокоточное управление пучком
• возможность имплантировать высокореактивные ионы в высоких концентрациях

Отличается конструкцией с двойным ионным источником, включающим внутренний и внешний ионные источники.

Особенности

• Энергия ионов: 1 — 200 кэВ
• Возможность обработки утоненных пластин
• Подогрев рабочего столика до 700 °С
• Возможность быстрого охлаждения столика
• Возможность имплантации ионов с двойным зарядом (до 400 кэВ)
• Широкий выбор источников ионов
• Малая занимаемая площадь (8,5 м²)