Система ионной имплантации Ulvac IH-860

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643

Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок

Печать/PDF

Описание
Технические характеристики

Система высокотемпературной ионной имплантации на средних токах Ulvac IH-860, предназначена для проведения процессов ионного легирования полупроводниковых структур на SiC подложках (и других) как в исследовательских целях, так и в серийном производстве.

Особенности

Два рабочих столика;
Подогрев рабочего столика до 500 °С;
Обработка утоненных пластин;
Превосходная фокусировка энергии;
Возможность быстрого охлаждения столика;
Возможность имплантации тройного заряда;
Различные источники ионов — широкая номенклатура ионов;
Малая занимаемая площадь;
Простота эксплуатации.

Модель	IH-860
Энергия однозарядного иона	30-400 кэВ
Энергия двухзарядного иона	до 800 кэВ
Энергия трехзарядного иона	до 1200 кэВ
Диапазон доз энергий	от 1xE13 до 2xE20 ионов/см²
Угол имплантации	обговаривается при заказе
Температура рабочего столика	до 500°С
Ток пучка	до 1000 мкА
Диаметр обрабатываемых пластин	до 150 мм
Производительность	50 пластин в час, при температуре имплантации 500°С

Система ионной имплантации Ulvac IH-860

Особенности

Запросить в один клик

Заполните форму

Запрос оборудования на тестирование