Система магнетронного распыления MSC200

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643

Кластерная установка магнетронного напыления (вид сверху)

Кластерная установка магнетронного напыления (вид сбоку)

Совмещенный модуль дегазации и выравнивания

Результаты технологических процессов. Результаты осаждения плёнки Al (толщины плёнок и их неравномерность)

Результаты технологических процессов. Стабильность поверхностного сопротивления пленки алюминия в пределах контрольных границ

Результаты технологических процессов. Однородность поверхностного сопротивления пленки алюминия (в зависимости от использования мишени)

Результаты технологических процессов. Привнесённая дефектность

Результаты технологических процессов. Толщина и неравномерность напыления слоя титана

Результаты технологических процессов. Толщина и неравномерность напыления слоя нитрида титана

Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок

Печать/PDF

Описание
Технические характеристики

MSC200 — полностью автоматическая кластерная система магнетронного распыления для крупносерийного производства. В системе применяется сдвоенный транспортный модуль (2x Backbone), позволяющий увеличить пропускную способность. Система позволяет проводить широкий круг процессов для МЭМС, IGBT, силовых устройств, LED и прочих полупроводниковых структур.

Система загрузки	Модуль загрузки открытых кассет, возможна установка SMIF-контейнеров
Модули	— Два модуля загрузки, две транспортные камеры, до шести рабочих модулей (стандартно четыре) — Вспомогательные модули (дегазация, предварительная очистка)
Диаметр подложек	Работа с пластинами до 200 мм
Перемещение пластин	— Высокоскоростные вакуумные роботы для транспортировки пластин — Оси вращения X, Y, Z
Программное обеспечение	Основано на Windows
Система откачки	— Модули загрузки: безмасляный форвакуумный насос — Транспортный и рабочие модули: криогенный насос
Линии подачи газов	До четырех линий
Материал подложек	Si, SiC, сапфир, стекло, GaAs, утоненные пластины
Предельное давление в камерах	— Шлюз загрузки: ≤ 5 ×10^-2 Торр — Транспортная камера: ≤ 3 ×10^-7 Торр — Камера распыления: ≤ 8 ×10^-8 Торр
Источники питания для магнетронов	— Источник постоянного тока до 20 кВт — Источник ВЧ до 3 кВт — Возможна установка источников с импульсной подачей
Используемые газы	O2, Ar, N2
Температура нагрева подложек	До 700 ⁰С
Скорость осаждения	0,1-100 А/с
Неоднородность толщины пленки	< ± 5 % (1σ)
Напыляемые материалы	Al, Ti(N), TiW, Au, Ag, Pt, Ni, Cu, AlNx, SiNx, SiOx, ITO и др.

Система магнетронного распыления MSC200

Запросить в один клик

Заполните форму

Запрос оборудования на тестирование