Система реактивного ионно-лучевого травления (RIBE) для пластин диаметром 300 мм BRIon-E12

BRIon-E12 — система реактивного ионно-лучевого травления для формирования решеток и наклонных профилей (grating) в структурах, для травления магнитных материалов (ячейки MRAM), а также для обработки нелетучих материалов и соединений (Pt, Au, Ir, NiFe, CoFe и др.). Система реактивного ионно-лучевого травления (RIBE) добавляет химические реакции в стандартный IBE-процесс, позволяя достигать более высоких скоростей травления и большей селективности к маске. Держатель пластин может быть наклонён для изменения направления воздействия и достижения заданного угла наклона стенок травления. Поскольку энергия луча и поток ионов могут быть независимо настроены, BRIon-E12 достигает лучшего контроля при формировании рисунка. Система может применяться для травления нестандартных профилей и трудных в обработке материалов. BRIon-E12 уже продемонстрировала способность мирового уровня к травлению наклонных и концентрирующих решёток.

Особенности

• Разработана для крупносерийного производства
• Ионный источник системы имеет большой диаметр, что позволяет обеспечивать высокую однородность процесса травления (неоднородность процесса травления в пределах 1σ менее 1 %)
• Осевое вращение столика улучшает симметричность процесса
• Энергия и поток ионного луча могут настраиваться независимо
• Быстрая скорость травления и высокая селективность благодаря реактивным рабочим газам
• RIBE-камеры могут быть интегрированы в различные кластерные системы (например, в систему OmniME-12)