Установки плазмохимического удаления полимерных слоев с поверхности пластин Ash-1 (ATM / VTM)

Ash-1 — серия установок плазмохимической обработки поверхности пластин для удаления фоторезиста, его остатков и полимеров с поверхности Ø 6- и 8-дюймовых пластин. Возможны как высокотемпературные (250 ⁰С), так и низкотемпературные (< 100 ⁰С) процессы.

Особенности

• Подходит для крупносерийного производства
• Применение источника удаленной индуктивно-связанной плазмы позволяет получать высокую однородность удаления фоторезистивных слоев (< 5 %), отсутствие зарядового эффекта
• Варьируемая скорость удаления позволяет проводить процессы быстрого снятия маски (Ash) и аккуратной обработки поверхности и удаления остатков (Descum)
• Выбор вакуумного (модель VTM) или атмосферного (модель ATM) модуля перемещения пластин
• Высокая пропускная способность за счет двухкамерной конструкции рабочего модуля (> 160 пл./ч)
• Программное обеспечение собственной разработки, простое в изучении и управлении