Установки плазмохимического удаления полимерных слоев с поверхности пластин Ash-2 / Ash-2ST

Ash-2 — серия установок плазмохимической обработки поверхности пластин для проведения процессов удаления фоторезиста, его остатков и полимеров с поверхности пластин Ø 3- / 4- / 6- / 8-дюйма. Возможны как высокотемпературные (250 ⁰С), так и низкотемпературные (< 100 ⁰С) процессы. Система может быть представлена в двухкамерном и однокамерном исполнении.

Особенности

• Подходит для мелкосерийного производства и НИОКР
• Применение источника удаленной индуктивно-связанной плазмы позволяет получать высокую однородность удаления фоторезистивных слоев (< 5 %), отсутствие зарядового эффекта
• Варьируемая скорость удаления позволяет проводить процессы быстрого снятия маски (Ash) и аккуратной обработки поверхности и удаления остатков (Descum)
• Высокая пропускная способность (> 60 пл./ч) в случае двух рабочих камер
• Программное обеспечение собственной разработки, простое в изучении и управлении