Фильтр
MSD100 / MSD150 — компактная установка проявления фоторезиста для лабораторных и образовательных применений. Обладает разными типами сопел нанесения реагентов-проявителей, позволяя подобрать подходящую методику для лучшего удовлетворения требованиям процесса.
NC200 — полуавтоматическая установка проявления фоторезиста для применений в НИОКР и малосерийных производствах МЭМС, КМОП-матриц (CIS) и других областях. Обладает разными типами сопел нанесения реагентов-проявителей, позволяя подобрать подходящую методику для лучшего удовлетворения требованиям процесса на пластинах до Ø200 мм.
SASD812 — установка проявления фоторезиста для обработки по одной пластине в условиях мелкосерийного производства и НИОКР. Поддерживает работу с подложками до Ø200 мм и может быть сконфигурирована для процессов проявления распылением, наливом лужи, а также под высоким давлением методом взрывной литографии (lift-off). Позволяет проводить отмывку пластин в деионизованной воде как с лицевой, так и с обратной стороны при помощи соответствующих сопел. Установка обеспечивает автоматический процесс проявления фоторезиста и отмывки по рецепту.