Фильтр
Система безмаскового экспонирования EVG LITHOSCALE®

Система безмаскового экспонирования EVG LITHOSCALE®, предназначена для проведения литографического процесса с высокой скоростью и разрешением без использования фотошаблонов.

Характеристики
Ситема прямого лазерного экспонирования SVG Microlab

Установка серии MicroLab представляет собой систему для формирования УФ-лучей для прямого экспонирования совместно с технологией пространственно-световой модуляции и перемещением по четырем осям. Система MicroLab предназначена для формирования точных микроструктур, а также экспонирования в градациях серого на плоских или криволинейных поверхностях с прямоугольными или полярными координатами. Также могут быть получены бинарные структуры наноразмеров.

Характеристики
Ситема прямого лазерного экспонирования SVG MiScan

Установка серии MiScan представляет собой систему для формирования УФ-лучей для прямого экспонирования или микро-нанолитографии. В системе MiScan установлены различные функциональные оптические системы, которые применяются совместно с технологией пространственно-световой модуляции, поддерживающей формирование микроструктур, а также фазовые модуляторы света с интерференционной технологией для непосредственного написания нано-структур.

Характеристики
Ситема прямого лазерного экспонирования SVG iGrapher

Установка серии iGrapher представляет собой систему для формирования УФ-лучей как для прямого экспонирования микроструктур, так и для микро-нанолитографии. В системе iGrapher установлены различные функциональные оптические системы, которые применяются совместно с технологией пространственно-световой модуляции, поддерживающей формирование микроструктур, а также фазовые модуляторы света с интерференционной технологией для непосредственного написания наноструктур.

Характеристики
Высокоэффективные системы для создания голограмм больших размеров SVG HoloMaker и HoloScan

HoloMaker и HoloScan — самые мощные системы для создания дифракционных изображений, которые позволяют получать современные широкоформатные голографические системы, 3D-голограммы, оптические переменные устройства, дифракционные изображения с кинетическим эффектом и субволновые структуры на сверхбольших подложках (40"...65″ и более). Одной из особенностей этих систем является возможность непрерывно изменять шаг решетки от 300 нм до 10 мкм в период в каждом пикселе, что позволяет создавать микро-наноструктуры в одной системе.

Характеристики
Высокоэффективная система лазерного нано-структурирования SVG NanoCrystal

Система NanoCrystal200 специально разработана для наноструктурирования металлических поверхностей, наноустройств и материалов с разрешением до 100 нм.

Характеристики