HP1210 — установка сушки и задубливания фоторезиста (Hot plate) для применения в условиях лабораторий и мелкосерийных производств. Обеспечивает высокую однородность нагрева фоторезиста и работу с пластинами до Ø300 мм.
Особенности
Автоматическая обработка по рецепту, ручная загрузка пластин
Температура нагрева до 250 °С
Сменные штифты для обработки с микрозазором
Неоднородность температуры менее ±2,5 ℃
Функция обработки в азотной атмосфере
Регулируемая вытяжка
Работа с пластинами до Ø300 мм
Диапазон рабочих температур: комнатная — 250 °С
Неоднородность температуры:
комнатная температура — 130 °С ≤ ±0,6 °С
130,1 °С — 200 °С ≤ ±1,5 °С
200,1 °С — 250 °С ≤ ±2,5 °С
Программируемые подъемные штифты
Система продувки рабочей зоны азотом
Запросить в один клик
Заказать звонок
Запрос оборудования на тестирование
?>
Сайт использует файлы cookie, обрабатываемые вашим браузером. Подробнее об этом вы можете узнать в Политике cookie.